論文賞を受賞しました

​2025年6月1日​研究成果

2023年に出版されたSiO₂/Si(001)界面における酸素配向状態を調べた論文に対し、日本表面真空学会より論文賞を受書されました。

受賞対象論文：Observation of Chemisorbed O₂ Molecule at SiO₂/Si(001) Interface During Si Dry Oxidation
著者：Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe, Shuichi Ogawa, Tetsuya Sakamoto, Yuji Takakuwa
雑誌：e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Vol. 21, 30-39 (2023)
DOI：https://doi.org/10.1380/ejssnt.2023-005