2024年01月24日
共同研究者の津田泰孝さん（日本原子力研究開発機構）が第8回応用物理学会薄膜・表面物理分科会論文奨励賞を受賞されることになりました。
授賞式および受賞記念講演が第71回応用物理学会春季学術講演会（東京都市大学、東京）にて行われます。
https://meeting.jsap.or.jp/
口頭発表／23p-12G-6
第8回薄膜・表面物理分科会奨励賞受賞記念講演
「Siドライ酸化におけるSiO2/Si界面での過剰少数キャリア再結合と化学吸着O2種の役割」
津田 泰孝、吉越 章隆、小川 修一、坂本 徹也、山本 善貴、山本 幸男、髙桑 雄二
本論文奨励賞の対象となった論文は下記のものです。
https://ogawalab.ee.cit.nihon-u.ac.jp/230128/
