表面分析研究会で講演を行います
3月5日、6日にShimadzu Tokyo Innovation Plaza(神奈川県川崎市)で開催される第65回表面分析研究会にて、1件の講演を行います。
https://www.sasj.jp/meetings/65th/index.html
口頭発表
「Si(111)表面のウェット酸化におけるH2O分圧依存」
(1 日本大学、2 原子力機構、3東北大学)
〇今泉 学士1、岡部 優希1、津田 泰孝2、吉越 章隆2、高桑 雄二3、小川 修一1
日本大学生産工学部電気電子工学科小川研究室のウェブペサイトです。
3月5日、6日にShimadzu Tokyo Innovation Plaza(神奈川県川崎市)で開催される第65回表面分析研究会にて、1件の講演を行います。
https://www.sasj.jp/meetings/65th/index.html
口頭発表
「Si(111)表面のウェット酸化におけるH2O分圧依存」
(1 日本大学、2 原子力機構、3東北大学)
〇今泉 学士1、岡部 優希1、津田 泰孝2、吉越 章隆2、高桑 雄二3、小川 修一1