応用物理学会で講演を行います

​2026年1月16日​学会・会議

3月15日から18日まで東京科学大学（東京都目黒区）で開催される第73回応用物理学会春季学術講演会にて、4件の発表を行います。
https://meeting.jsap.or.jp/

口頭発表／15p-W8E_101-5
「Siウェット酸化の反応機構：SiO₂膜の固溶H₂Oの役割」
（¹日大生産工、²原子力機構、³東北大）
今泉 学⼠¹、岡部 優希¹、津田 泰孝²、吉越 章隆²、高桑 雄⼆³、〇小川 修一¹

口頭発表／17p-W9_323-1
「O₂解離吸着におけるSi表⾯電子状態の役割：Si(001)とSi(111)の⽐較」
（¹原子力機構、²日大生産工、³東北大）
〇津田 泰孝¹、岡部 優希²、WEN Hengyu²、吉越 章隆¹、小川 修一²、高桑雄二³

口頭発表／17p-W9_323-4
「窒素ドープDLCの電気抵抗特性：N₂濃度依存」
（¹日大生産工）
〇焉 域霖¹、関 理志¹、小川 修一¹

口頭発表／18a-W9_323-6
「Siドライ酸化の酸素分圧への非線形依存：熱正孔捕獲の役割」
（¹日大生産工、²原子力機構、³東北大）
〇岡部 優希¹、津田 泰孝²、WEN Hengyu¹、吉越 章隆²、高桑雄二³、小川 修一¹