応用物理学会で講演予定

9月17日から10日まで名城大学（愛知県名古屋市）で開催される第86回応用物理学会秋季学術講演会にて4件の発表を行います。
https://meeting.jsap.or.jp/

ポスター発表／7a-P05-29
「積層グラフェンの電気伝導特性へのカリウム濃度の効果」
（1.産総研, 2.日⼤, 3.原⼦⼒機構, 4.静⼤）
〇沖川侑揮¹, 小川修一², 津田泰孝³, 吉越章隆³, 増澤智昭⁴, 岡田光博¹, 山田貴壽¹

口頭発表／9a-N401-5
「Si表⾯の協奏酸化反応機構：少数キャリア捕獲過程のp-Si(001)/n-Si(001)⽐較」
（1.日⼤⽣産⼯, 2.原⼦⼒機構, 3.東北⼤）
〇岡部優希¹, 津田泰孝², Wen Hengyu¹, 吉越章隆², 高桑雄二³, 小川修一¹

口頭発表／9a-N401-8
「光電⼦制御プラズマCVDによる窒素ドープDLC合成：放電様式依存」
（1.日大生産工）
〇焉域霖¹, 関理志¹, 小川修一¹

口頭発表／10a-N401-3
「Si(111)酸化におけるLinear-Parabolic growth開始遅れの物理的意味」
（1.日⼤⽣産⼯, 2.原⼦⼒機構, 3.東北⼤）
〇Wen Hengyu¹, 津田泰孝², 岡部優希¹, 吉越章隆², 高桑雄二³, 小川修一¹