日常

3月25日に卒業式・学位記授与式が行われ、小川研3期生が卒業いたしました。CUIさんが成績優秀につき優等賞および電気電子工学科賞を、今泉君が幹事会活動により善行褒賞を、椎名君が部活動の活躍により善行褒賞をそれぞれ受賞いたしました。 皆様、ご卒業おめでとうございます!!

学会・会議

3月15日から18日まで東京科学大学(東京都目黒区)で開催された第73回応用物理学会春季学術講演会にて、4件の講演を行いました。 口頭発表/15p-W8E_101-5「Siウェット酸化の反応機構:SiO2膜の固溶H2Oの役割」(1日大生産工、2原子力機構、3東北大)今泉 学⼠1、岡部 優希1、津田 泰孝2、吉越 章隆2 ...

学会・会議

3月5日、6日にShimadzu Tokyo Innovation Plaza(神奈川県川崎市)で開催された第65回表面分析研究会にて、1件の講演を行いました。 口頭発表「Si(111)表面のウェット酸化におけるH2O分圧依存」(1 日本大学、2 原子力機構、3東北大学)〇今泉 学士1、岡部 優希1、津田 泰孝2、吉越 ...