表面分析研究会で講演を行います
3月5日、6日にShimadzu Tokyo Innovation Plaza（神奈川県川崎市）で開催される第65回表面分析研究会にて、1件の講演を行います。 口頭発表「Si(111)表面のウェット酸化におけるH2O分圧依存」（1 日本大学、2 原子力機構、3東北大学）〇今泉 学士1、岡部 優希1、津田 泰孝2、吉越 ...
EDIT31にて2件の講演を行いました
2026年1月29日から1月30日まで東レ総合研修センター（静岡県三島市）で開催された「第31回電子デバイス界面テクノロジー研究会」にて、2件の発表を行いました。 ポスター発表／P22「Si(111)表面におけるLinear-Parabolic Growth遅延の酸素分圧依存性」Hengyu Wen, 津田泰孝, 岡部 ...