研究成果の海外メディア掲載
共同研究で発表した「高輝度放射光で解き明かすシリコン酸化膜の成長過程 ～ナノデバイスの世界を支配する界面欠陥とキャリア捕獲～」について、英語および中国語のニュースサイトで紹介されました。 Science Japan（英語サイト）客観日本（中国語サイト）
研究会に参加しました
東レ総合研修センター（静岡県三島市）で開催された「第28回電子デバイス界面テクノロジー研究会」（2023年2月2日〜4日）に参加し、最新の研究動向の情報収集と今後の共同研究に向けたディスカッションを行ってきました。次回の研究会では私たちのグループからも発表できるよう研究を進めていきます。 コロナ禍のため3年ぶりの対面で ...